鈴木 基史
教授： 鈴木 基史 ( Suzuki, Motofumi )
研究テーマ
物質のnmオーダーの構造や形態を制御してやることによって現れる新たな性質の発現を目指して薄膜技術を用いた構造や形態の制御とその性質に関する研究をおこなっています。特に動的斜め蒸着という方法によって3次元形態を制御した薄膜の光学的、機械的性質の応用に注力しています。
連絡先
桂キャンパス C3棟 c2S10号室
TEL: 075-383-3695 / FAX 075-383-3695
E-mail: m-snki@me
※メールアドレスの後ろに .kyoto-u.ac.jp を補ってください。
学歴
- 昭和57年 3月 愛知県立岡崎北高等学校卒業
- 昭和57年 4月 京都大学工学部機械系学科入学
- 昭和61年 3月 京都大学工学部物理工学科卒業
- 昭和61年 4月 京都大学大学院工学研究科物理工学専攻修士課程入学
- 昭和63年 3月 同上修了
- 平成10年 3月 “Studies on the Giant Magnetoresistance in Magnetic Superlattices” (磁性人工格子の巨大磁気抵抗効果に関する研究) により京都大学博士(工学) の学位取得
職歴／研究歴
- 昭和63年 4月
株式会社 豊田中央研究所 入社
磁性人工格子の界面原子構造の制御・解析と，巨大磁気抵抗効果に関する研究
斜め蒸着による薄膜の形態構造の制御と新奇機能の探索研究
研究推進責任者として，有機EL素子の界面電子状態の解明／制御，微小電界放出電子源，高透磁率材料の開発などを推進 - 平成14年 4月
京都大学大学院工学研究科機械物理工学専攻メゾスコピック講座助教授に着任
動的斜め蒸着による貴金属ナノ粒子の形態制御と局所プラズモンの応用
高温斜め蒸着による金属ウィスカ形成メカニズム解明と応用
高分解能ラザフォード後方散乱分光法による極浅界面の原子構造の解明と，薄膜成長初期過程解明 - 平成16年4月
改組により名称変更
京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻ナノサイエンス講座ナノ物性工学分野 准教授 - 平成25年8月
京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻マイクロシステム創成講座マイクロ加工システム分野 教授